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上海微电子新式光刻机专利曝光,可提高光刻机的分辨率

发布时间:2021-10-25 ┊ 文章作者:豪迪群发

近日上海微电子举办新新品发布会,公布发布新一代大视场角高像素优秀封裝光刻机。现阶段,上微已与好几家顾客达到新一代优秀封裝光刻机销售协议,第一台将于年之内交货。

电子光学光刻是一种用尽将掩模图案设计投影拷贝的技术性,集成电路芯片便是由投影曝出设备做成的,将有着不一样掩模图案设计的图型显像至底材上,生产制造集成电路芯片.塑料薄膜磁带机.液晶显示屏板,或微机电工程等一系列构造。以往数十年曝出机器设备技术实力持续发展趋势,达到了更小线框规格,更大揭密总面积,更可靠性高及产出率,及其更成本低的要求。殊不知目前的光刻投影目镜依然存有例如数值孔径较小.屏幕分辨率低.可用股票波段窄.数值孔径不能变和非球面镜镜片生产加工制造成本高难题。

因此,上海微电子于 2018 年 12 月 30 日申请办理了一项名叫“一种光刻投影目镜及光刻机”的专利发明(注册号: 201811648523.1),申请者为上海微电子武器装备 (集团公司) 股权有限责任公司。

▲ 图 1 光刻投影目镜结构示意图

图 1 为本产品明确提出的光刻投影目镜的结构示意图,包含第一镜片组.第二镜片组和第三镜片组,及其与之上镜片组有关光阑对称性安装的第四镜片组.第五镜片组和第六镜片组。根据调整光阑的通光孔的多少还可以调整光刻投影目镜的数值孔径,进而提升光刻投影目镜适用不一样情景的工作能力。且各镜片组的镜头焦距设置可以扩大光刻投影目镜的数值孔径,提高光刻投影目镜的屏幕分辨率

第一镜片组 G1.第三镜片组 G3.第四镜片组 G4 及其第六镜片组 G6 具备正的光焦度,第二镜片组 G2 及其第五镜片组 G5 具备负的光焦度。光焦度相当于像方光线汇聚度与物方光线汇聚度之差,它表现光学元件偏折光源的工作能力。光焦度的平方根越大,对光源的弯曲工作能力越强,相反对光源的弯曲工作能力越弱。光焦度为正数时,光源的屈折是聚集性的,相反则是是散发性的。光焦度能够适用表现一个镜片的某一个映射面,或表现某一个镜片,还可以适用表现好几个镜片一同建立的系统软件。

各镜片组及其光阑 STOP 中的全部的镜片均为曲面镜片。曲面镜片就是指从镜片的核心到边沿具备稳定的折射率,曲面镜片的2个映射面均为曲面,而非球面镜镜片则是以核心到边沿之折射率持续产生变化,因而曲面镜片相对性于非球面镜镜片来讲更易于生产加工。本产品执行例中的镜片所有选用曲面镜片,减少了光刻投影目镜中镜片的生产成本,减少了镜片的生产加工周期时间,提高了光刻投影目镜的装调高效率。

简单点来说,上海微电子的光刻投影目镜专利权,根据选用曲面镜片设计方案,减少了生产加工制造成本,扩大了数值孔径,而且适用 ghi 三线股票波段。拓展了投影目镜的适合情景,提升了光刻机的屏幕分辨率。