上海微电子新式光刻机专利曝光，可提高光刻机的分辨率
发布时间：2021-10-25 ┊ 文章作者：豪迪
近日上海微电子举办新新品发布会，公布发布新一代大视场角高像素优秀封裝光刻机。现阶段，上微已与好几家顾客达到新一代优秀封裝光刻机销售协议，第一台将于年之内交货。
电子光学光刻是一种用尽将掩模图案设计投影拷贝的技术性，集成电路芯片便是由投影曝出设备做成的，将有着不一样掩模图案设计的图型显像至底材上，生产制造集成电路芯片.塑料薄膜磁带机.液晶显示屏板，或微机电工程等一系列构造。以往数十年曝出机器设备技术实力持续发展趋势，达到了更小线框规格，更大揭密总面积，更可靠性高及产出率，及其更成本低的要求。殊不知目前的光刻投影目镜依然存有例如数值孔径较小.屏幕分辨率低.可用股票波段窄.数值孔径不能变和非球面镜镜片生产加工制造成本高难题。
因此，上海微电子于 2018 年 12 月 30 日申请办理了一项名叫“一种光刻投影目镜及光刻机”的专利发明（注册号: 201811648523.1），申请者为上海微电子武器装备 (集团公司) 股权有限责任公司。
▲ 图 1 光刻投影目镜结构示意图
图 1 为本产品明确提出的光刻投影目镜的结构示意图，包含第一镜片组.第二镜片组和第三镜片组，及其与之上镜片组有关光阑对称性安装的第四镜片组.第五镜片组和第六镜片组。根据调整光阑的通光孔的多少还可以调整光刻投影目镜的数值孔径，进而提升光刻投影目镜适用不一样情景的工作能力。且各镜片组的镜头焦距设置可以扩大光刻投影目镜的数值孔径，提高光刻投影目镜的屏幕分辨率。
第一镜片组 G1.第三镜片组 G3.第四镜片组 G4 及其第六镜片组 G6 具备正的光焦度，第二镜片组 G2 及其第五镜片组 G5 具备负的光焦度。光焦度相当于像方光线汇聚度与物方光线汇聚度之差，它表现光学元件偏折光源的工作能力。光焦度的平方根越大，对光源的弯曲工作能力越强，相反对光源的弯曲工作能力越弱。光焦度为正数时，光源的屈折是聚集性的，相反则是是散发性的。光焦度能够适用表现一个镜片的某一个映射面，或表现某一个镜片，还可以适用表现好几个镜片一同建立的系统软件。
各镜片组及其光阑 STOP 中的全部的镜片均为曲面镜片。曲面镜片就是指从镜片的核心到边沿具备稳定的折射率，曲面镜片的2个映射面均为曲面，而非球面镜镜片则是以核心到边沿之折射率持续产生变化，因而曲面镜片相对性于非球面镜镜片来讲更易于生产加工。本产品执行例中的镜片所有选用曲面镜片，减少了光刻投影目镜中镜片的生产成本，减少了镜片的生产加工周期时间，提高了光刻投影目镜的装调高效率。
简单点来说，上海微电子的光刻投影目镜专利权，根据选用曲面镜片设计方案，减少了生产加工制造成本，扩大了数值孔径，而且适用 ghi 三线股票波段。拓展了投影目镜的适合情景，提升了光刻机的屏幕分辨率。
